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    SEM8000掃描電子顯微鏡

    發(fā)布時間:2024-05-16
    產品型號:BJMICRO SEM8000掃描電子顯微鏡
    所屬分類:電子顯微鏡
    詳情介紹

    BJMICRO   SEM 掃描電子顯微鏡的品質值得信賴, 可助工業(yè)質量保證和失效分析實驗室一臂之力 

        在工業(yè)質量、失效分析或研究環(huán)境中,由于掃描電子顯微鏡 可提供高分辨率成像和高空間分辨率元素化學信息,所以它 是金相學和失效分析應用的理想之選。 

        專為日常檢測和分析應用而設計,謹諾SEM 擁有先進的操作 

        設計理念,無論是經驗豐富的顯微技術人員還是不具備掃描 顯微鏡專業(yè)知識的工程師,均可輕松上手。它能夠提供出色的高質量數據,特別適合于后續(xù)檢測中無法涂覆導電層的非 導電零部件。

    • 廣泛的適用性

       最高放大倍數300,000x

    • 大樣品臺尺寸

       樣品臺的移動范圍最高可達 X=80mm,Y=60  mm

    • 實時導航

       光學導航實現(xiàn)快速準確樣品定位與追溯

    • 效率高,維護方便

           15秒抽真空,30秒成像

    • 操作簡單

        即使沒有電鏡操作經驗,培訓30分鐘也能親自使用

    • 高分辨率表面形貌

        二次電子(SE) 成像-使用高達數納米的分辨率,輕松應對幾乎所有亞微米級應用

    • 穩(wěn)定可靠

        落地式設計,完全防震

        內置磁屏蔽系統(tǒng)

        高容差、防呆設計

        電子光路免維護

    •   EDS

        選配強大的元素分析功能,元素分析與成像一樣簡單

    掃描電鏡(SEM) 是一種多用途的分析工具,掃描電鏡以其高 分辨率、大景深和操作簡單等優(yōu)點,在多個領域發(fā)揮著重要 作用,具有廣泛的應用范圍。 

    • 材料科學

             SEM 用于觀察和分析各種材料的微觀形貌、結構和組成。例如,在材料制備過程中,它可以用來分析陶瓷、金屬、高分子材料等顯微結構。 

    • 生物和醫(yī)學領域

               SEM 可以觀察細胞和組織的超微結構,有助于探明病因、治療疾病以及研究生命活動的規(guī)律。 

    • 半導體行業(yè)

               SEM 用于電子半導體行業(yè)的多種檢測,如LCD 增亮膜、電子元器件焊點、晶圓雜質、半導體元器件和微納加工的檢測。 

    • 納米科技

               SEM直接觀察納米材料的結構,顆粒尺寸、分布、均勻度及團聚情況,并結合能譜分析納米材料的微區(qū)成分。 

    • 工業(yè)檢測

               SEM用于汽車車衣、防偽涂層、微礦粉、金剛砂等多種工業(yè)產品的檢測。 

    • 地質勘探和考古學

               SEM 用于古生物形態(tài)分析、鑒定和巖石樣品的潤濕性特征研究等。 

    • 其他應用

        包括粉末、微粒、鍍層厚度、機械零件失效分析、刑偵案件物證分析與鑒定等。 

    • 所見即所得 

        通過分析自然狀態(tài)下的樣品,獲得精準且質量優(yōu)異的圖像和數據當然,有時不希望將某一特殊零部件移至掃描電子顯微鏡下,因為非導電表面會在電子束的作用下充電。在多模式質量保證或失效分析工作流程中使用的零部件不得進行改性。 

     

    石墨

     

    纖維

     

    血液分析

     

    生物樣本分析

    OLED

    首飾

     

    陶瓷

     

    IC

     

     

     

     

     

     

     

     

     

     

     

     

     

     

     

     

     

     

     

     

     

     

     

     

     

     

     

     

     

     

    能譜儀

       

    能譜儀(EDS)主要是用來對材料微區(qū)元素 組成進行定性、定量分析的一種科學儀器。 廣泛應用于各種材料的元素分析,如金屬、 陶瓷、混凝土、生物、礦物、纖維等無機或有機固體材料分析等。 

       

    離子濺射儀

    離子濺射儀,采用旋片泵快速產生一個<3 Pa的真空壓強,通常抽真空時間小于2分鐘。采用磁控濺射技術,以大幅度減少等離子體對樣品的熱影響和離子轟擊損傷。特別適用于臺式燈 絲SEM 電鏡樣品的噴金、噴鉑等貴金屬鍍膜用途。

     

    技術參數

    靶的尺寸 

    直徑32×0.1-2 mm 

    離子流控制范圍 

    19mA 

    樣品室內徑 

    120×120 mm石英玻 

    旋片式機械真空泵 

    10L/min 

    外形尺寸 

    360(W)x250(D)x330(H)mm 

    電源 

    220V,60Hz,500W 

    型號 

    SEM 8000 

    放大倍率

    1.0x~300,000x(圖像放大倍率) 

    二次電子分辨率 

    3.0nm(加速電壓30kv,高真空) 

     

    10.0nm(加速電壓5kv,高真空) 

    加速電壓 

    1.0kv~30kv 

    樣品最大尺寸

    80mm(直徑),40mm(厚度) 

    圖像位移 

    ±50μm(工作距離=8mm) 

    載物臺

    電動軸 

    5軸電動(X,Y,R,T,Z) 

     

    運動行程 

    X:0~80 mm,Y:0~60mm,R:360

     

     

    Z:0~50   mm ,T:0? ~+90°

    電子鏡

    電子槍

    預對中型鎢燈絲電子槍 

     

    檢測系統(tǒng) 

    二次電子探測器,高靈敏度 

     

    EDS分析WD(工作距離) 

    WD=10mm(T.O.A=25°) 

    圖像顯示 

    圖像保存 

    640x480/1280x960/2560x1920/5120x3840 px 

     

    圖像格式 

    24液晶顯示器(BMP/TIFF/JPEG) 

     

    主機 

    Windows 10(HDD:500G,內存:4GB) 

    真空系統(tǒng) 

    渦輪分子泵 

    1臺泵,80 L/s 

     

    機械泵 

    1臺泵,100 L/min(60Hz) 

     

    X射線能譜儀(EDS)(Bruker Nano GmbH/AMETEK/Oxford Instruments) 

     

    BSE(背散射電子探測器) 

     

    低真空系統(tǒng) 

     

    740mm(W)x700mm(D)x1,400mm(H) 

    安裝要求

    溫度:22℃±5℃,濕度:小于80% 

     

    電源:210~240VAC,1Kw,50/60Hz 

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